В России запатентовали новый раствор для удаления фоторезиста

В России зарегистрировали патент на инновационный химический состав, предназначенный для удаления фоторезиста. Разработку представила компания «Технотех» из Йошкар-Олы — отечественный производитель печатных плат и радиоэлектроники. Изобретение получило официальное название «Раствор для удаления фоторезиста и концентрат для его приготовления».

В России зарегистрировали патент на инновационный химический состав, предназначенный для удаления фоторезиста. Разработку представила компания «Технотех» из Йошкар-Олы — отечественный производитель печатных плат и радиоэлектроники. Изобретение получило официальное название «Раствор для удаления фоторезиста и концентрат для его приготовления». 

После выполнения всех технологических этапов фоторезист необходимо удалить, и именно для этой цели был создан новый раствор.

Необходимость разработки собственного состава возникла в условиях санкций, ограничивших поставки специализированной химии из США и Европы. Как рассказал Телеспутнику заместитель генерального директора по инновациям «Технотеха» Владимир Потапенко, компания оказалась в сложной ситуации: привычные импортные реагенты закончились, а их замены на рынке оказались недоступны.

При этом предприятие сознательно отказалось от использования устаревших технологий. 

Команда «Технотеха» в кратчайшие сроки (всего за две недели) разработала собственный раствор. Новый состав показал высокую эффективность: он быстро и полностью удаляет фоторезист, при этом не повреждает медь и олово, улучшает антикоррозионные свойства печатных плат и предотвращает образование пены во время использования.